經濟部產業技術司今(8)日起於Touch Taiwan系列展中「電子生產製造設備展」設立創新技術館,展出14項關鍵技術。例如為協助面板廠轉型切入面板級先進封裝市場,工研院研發「次世代面板級封裝金屬化技術」,突破高深寬比金屬化與鍍膜限制,導入全濕式製程使成本降低30%,攜手宸鴻光電(TPK)、聯策科技、超特國際、旭宇騰精密科技等臺廠,帶動國產材料與設備供應鏈,建構面板級封裝產業生態系。 經濟部產業技術司副司長周崇斌表示,受惠於AI、HPC與智慧製造驅動,全球半導體產業布局持續擴張。根據Global information(GII)市場調查,面板級封裝產值預計從2025年的4億美元,至2030年飆升五倍至20 億美元。經濟部長期透過科技專案支持研發半導體設備與關鍵模組,強化自主研發能力,助國內業者打入高值化供應鏈搶占市場先機。 產業技術司說明,此次創新技術館聚焦「先進封裝」與「化合物半導體」,分享在經濟部產業技術司補助下的三項技術產業應用成果: 第一,工研院研發「次世代面板級封裝金屬化技術」,成功克服玻璃通孔填銅(Through-Glass Via,TGV)與陶瓷鍍膜瓶頸,以「全濕式鍍膜」取代傳統製程,解決細微孔洞鍍膜不連續的限制,大幅降低設備與製程成本達30%、生產更順暢,吸引宸鴻光電、聯策科技、超特國際、旭宇騰精密科技等指標大廠搶先佈局。 第二,工研院研發「晶圓式電漿感測系統」提升晶片良率的量測效率,電漿就像「看不見的加工工具」,能量微小的波動都會牽動蝕刻的準確度,該技術透過19個微型感測器與智慧演算法,整合於12吋晶圓,產線不中斷就能即時監測,精準掌握電漿均勻度,量測效率提升10倍,更與設備業者技鼎合作驗證,強化我國設備在全球供應鏈的關鍵地位。 第三,金屬中心研發「低蒸氣壓前驅物氣化供應系統」,為半導體關鍵鍍膜技術帶來重大突破,該技術能穩定輸送氣體,讓鍍膜品質更均勻,建立高深寬比(20:1)鍍膜抗蝕刻薄膜技術,不僅提升2-3%製程良率,更讓設備零件更耐操,每台機器每年可省下百萬維護費。目前已成功吸引大甲永和機械投入開發,推動國產設備技術升級。 未來,產業技術司將持續投入科技專案與A+企業創新研發計畫,支持法人機構深化半導體設備與關鍵模組技術。透過產研緊密合作,技術司將協助臺灣半導體設備產業突破技術瓶頸並走向國際市場,成為全球先進製造最可靠的戰略夥伴,持續強化我國在全球供應鏈的關鍵領先地位。
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